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有机合成中常用苄基作为N或O的保护基,其脱除方法有:催化氢解或单电子还原脱除、Lewis酸脱除、氧化脱除等。通常N-苄基较O-苄基更难脱除。2012年Hideo Togo小组报道:KBr与Oxone®体系可实现无重金属参与的芳烃苄位氧化(Org. Lett., 2012, 14, 2414 – 2417)。之后,该小组使用该氧化体系成功实现了酰胺N-苄基的高效脱除,优选条件为:1.0 eq. KBr,1.5 eq. Oxone,MeNO₂为溶剂,加热30 ºC (Org. Lett., 2014, 16, 3812 – 3815)。
不同酰胺底物 (如芳基磺酰胺、烷基磺酰胺、苯甲酰胺、内酰胺)的N-苄基都能很好地被脱除,酰胺N上的其他取代基位阻影响不大 (化合物2e、2h和2i),单取代的酰胺底物也能够得到良好结果 (化合物2q),而且底物中的-OAc、-CN、-Cl、-CO₂Et、-NO₂、-OTBDPOS等官能团不受影响。
苄醚在此条件下也可以顺利脱除苄基,但情况有所不同:仲醇的苄醚脱除苄基时得到的不是醇,而是得到进一步被氧化为酮的化合物;伯醇的苄醚则直接被氧化为羧酸 (化合物6p);叔醇的苄醚可顺利脱除而不发生进一步氧化 (化合物5o)。值得注意的是羧酸苄酯在此条件下并不受影响 (化合物6q)。
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