八氟丙烷(C₃F₈)作为含氟电子特种气体之一，因其良好的化学和热稳定性、较低的大气寿命和更有效的蚀刻/清洗性能而广泛应用于半导体和集成电路制造领域。然而工业上C₃F₈的生产通常伴随着六氟丙烯(C₃F₆)杂质。由于C₃F₈和C₃F₆具有非常相似的物理和化学性质，以及接近的分子尺寸，生产高纯度的C₃F₈充满挑战性。

为了解决这一难题，天津工业大学仲崇立/黄宏亮团队发表文章，提出了氟化孔隙工程策略，通过在笼状孔的MOF孔窗口处引入氟化基团，实现了C3F6/C3F8的高效分离并解决了吸附容量和选择性的权衡问题。

作者将疏水三氟甲基引入具有较大孔笼的母体MOF (Zn-bzc) 的孔窗口处，得到三氟甲基修饰的Zn-bzc-CF₃ 材料。与原始的Zn-bzc材料相比，引入的-CF₃基团显著降低了Zn-bzc-CF₃的孔径。

由于引入的-CF₃基团可以创造疏水的微环境，从而大大提高了Zn-bzc-CF₃材料的化学稳定性。气体吸附实验表明，Zn-bzc对C₃F₈和C₃F₆均有明显的共吸附现象(图3d)。然而Zn-bzc-CF₃ 对C₃F₈仍几乎不吸附，但可以有效的吸附C₃F₆，从而表现出理想的分子筛分分离。穿透实验结果表明，Zn-bzc-CF₃对C₃F₈和C₃F₆混合组分离表现出优异的分离效果。

通过DFT计算，作者进一步揭示了具有分子筛效应的详细机理。在优化的最优构型中，C₃F₆优先位于Zn-bzc-CF₃空腔的角落，结合能为32.9 kJ mol^-1。被吸附的C₃F₆分子与锌团簇和吡唑环及吡唑环上的-CF₃基团形成多点相互作用。

作者提出了氟化孔隙工程策略，实现了C₃F₆/C₃F₈的高效分离。通过在笼状孔结构的Zn-bzc材料孔窗口处引入氟化基团，不仅提供了合适的孔窗口尺寸，实现了C₃F₆/C₃F₈的分子筛分分离，而且氟化基团能够与C₃F₆分子形成F···F相互作用，强化了C₃F₆亲和力。此外，氟化孔隙工程可以创造疏水微环境，使Zn-bzc-CF₃ MOF具有较高的化学稳定性和吸附循环再生性能，从而具有良好的应用前景。